§ 9

1. Dla plantacji nasiennych gatunków roślin uprawnych, dla których w wymaganiach szczegółowych czystość odmianowa jest określona:

1) w procentach - stosuje się metodę dokonywania oceny polowej według norm procentowych;

2) w sztukach na jednostkę kwalifikacyjną - stosuje się metodę dokonywania oceny polowej według norm powierzchni.

2. Wielkości jednostek kwalifikacyjnych, o których mowa w § 8 ust. 1, wynoszą:

1) dla plantacji nasiennych gatunków roślin uprawnych ocenianych metodą według norm procentowych - 20 m²;

2) dla plantacji nasiennych wszystkich gatunków życic i festulolium, na których jest wytwarzany:

a) materiał siewny kategorii elitarny - 50 m²,

b) materiał siewny kategorii kwalifikowany - 10 m²;

3) dla plantacji nasiennych wiechliny łąkowej, na których jest wytwarzany:

a) materiał siewny kategorii elitarny - 20 m²,

b) materiał siewny kategorii kwalifikowany - 10 m²;

4) dla plantacji nasiennych pozostałych gatunków roślin rolniczych, z wyłączeniem sadzeniaków ziemniaka, na których jest wytwarzany:

a) materiał siewny kategorii elitarny - 30 m²,

b) materiał siewny kategorii kwalifikowany - 10 m²;

5) dla plantacji nasiennych, na których rośliny są uprawiane pojedynczo, w rzędach o dużej rozstawie (powyżej 30 cm) lub gniazdowo - 100 kolejnych roślin w rzędzie albo po 50 kolejnych roślin w dwóch sąsiednich rzędach;

6) dla plantacji nasiennych roślin warzywnych:

a) 10 m² albo

b) 100 kolejnych roślin w rzędzie lub po 50 kolejnych roślin w dwóch sąsiednich rzędach - jeżeli rośliny są uprawiane w rzędach o dużej rozstawie (powyżej 30 cm).

3. Na wszystkich plantacjach nasiennych odmian mieszańcowych, z wyjątkiem żyta oraz innych gatunków roślin uprawnych, dla których stosuje się mieszaninę składników rodzicielskich (mieszaninę techniczną), jednostki kwalifikacyjne wyznacza się oddzielnie dla każdego składnika rodzicielskiego.

4. Podczas ostatniej oceny stanu plantacji nasiennej odmian mieszańcowych sprawdza się zniszczenie roślin zapylacza dla gatunków, dla których takie wymaganie zostało określone w wymaganiach szczegółowych.